布魯克Bruker MATRIX-F II FT-NIR 過程光譜儀
名稱：光譜儀
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簡介：如今，光譜分析已成為一項非常重要的在線過程監測與優化技術。由光纖連接的探頭可以直接監控生產過程，并且不存在時間延遲。MATRIX-F II 傅立葉變換光譜儀可以在過程反應器和管道中直接進行測量，讓您更好地理解和控制生產過程。其創新性技術提供...
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- 產品介紹
如今，光譜分析已成為一項非常重要的在線過程監測與優化技術。由光纖連接的探頭可以直接監控生產過程，并且不存在時間延遲。
MATRIX-F II 傅立葉變換光譜儀可以在過程反應器和管道中直接進行測量，讓您更好地理解和控制生產過程。其創新性技術提供了一致的高質量結果、縮短了停機時間，并實現了方法的直接轉移。布魯克生產的所有過程光譜儀都具有堅固性、長期穩定性和維護成本低的特點。
數千臺在線光譜儀已經安裝和使用于化工、石化、聚合物和制藥生產過程以及食品和飼料制造領域，是我們過程控制豐富經驗的有力證明。
如今，許多制造商不僅致力于生產具有最佳品質的成品，還希望通過將實驗室分析技術應用于工廠，來改進生產效率。通過加大對生產過程的監控，制造商將能優化物料利用，減少甚至消除不合格產品的產生，從而最終避免造成再加工和廢棄處理成本。
傅立葉近紅外分析技術的實時在線監控的優勢已眾所周知。然而，傳統的光譜儀只能安裝在靠近監控生產線的地方，這意味著將分析操作人員暴露在高溫高濕、噪音、粉塵等惡劣環境中。而且，測量點有時很難接近，甚至是防爆等危險區。
通過利用光纖技術，MATRIX-F II 主機可與實測點相距數百米，將探頭直接安裝在采樣點，大大簡化了工業現場測試的難度。此外，當環境特別惡劣時可將主機置于帶空調的工業小屋內，這樣可以消除極端溫度影響，進一步優化光譜儀的性能，還可以保護 MATRIX-F II，防止其遭受過度污垢和灰塵。
常見的過程控制包括監測化學反應以及中間產品和成品的質量：
直接監測生產反應器和管道中樣品
遠距離測量
加深過程理解和控制
用于測定不同行業混合過程均勻性、化學品組分濃度和聚合過程狀態的理想工具
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MATRIX-F II 是目前唯一的只用一臺儀器就可對物料進行接觸式測量和非接觸式測量的光譜儀。有不同的測量附件可供使用：
光纖探頭：可根據需要配置漫反射、透反射或不同光程長度的液體透射探頭，以及流通池或其他試驗性裝置。還可根據物料性質選擇配置不同材質的探頭，如不銹鋼、哈氏合金或陶瓷
非接觸式測量的發射探頭：非接觸式發射探頭內置鎢燈光源，可以直接照射樣本，并將收集的散射漫反射光通過光纖傳輸至光譜儀。通過這種方式，可以進行遠程非接觸式測量，實現一系列全新應用。它可以提供多達六個流通池或探頭的光纖連接MATRIX-F emission或MATRIX-F II duple。
MATRIX-F II:
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MATRIX-F II: 經典 FT-NIR 光譜儀，通過光纖連接流通池或浸入式探頭，用于固體或液體分析。
MATRIX-F II emission:
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MATRIX-F II emission: 特別版 MATRIX-F II 光譜儀，通過光纖連接非接觸式發射探頭，僅用于非接觸式測量。
MATRIX-F II duplex:
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MATRIX-F II duplex：經典 MATRIX- F II 的擴展型號，可同時連接常規光纖探頭和非接觸式發射探頭。
